電子級全氟丁基磺酸-4-環(huán)己基苯基二苯基硫鎓鹽是一種高純度光敏化合物，廣泛應用于半導體光刻膠材料和微電子制造。該化合物以其優(yōu)異的化學穩(wěn)定性和光響應性能滿足先進工藝的嚴苛需求，適用于深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻技術(shù)。

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【物理性質(zhì)】

基本信息

（1）分子式：C₂₈H₂₅F₉O₃S₂

（2）分子量：644.61 g/mol

外觀與純度

（1）外觀：白色至淺黃色結(jié)晶粉末。

（2）純度：≥99.5%（電子級）。

物理參數(shù)

（1）熔點：150–180°C。

（2）溶解性：易溶于乙腈、丙酮等極性有機溶劑。

（3）熱穩(wěn)定性：高溫條件下不易分解。

（4）光化學活性：在深紫外光區(qū)域具有良好的光敏響應。

【應用領(lǐng)域】

半導體光刻工藝

（1）用作光刻膠中的陽離子光引發(fā)劑，增強光刻膠的化學放大效果。

（2）適用于深紫外和極紫外工藝中的高精度光刻應用。

電子封裝材料

（1）在電子封裝中用作抗蝕劑，提高絕緣性能與耐熱性能。

（2）支持高密度集成電路（IC）封裝的加工需求。

功能性涂層開發(fā)

（1）用于光學涂層材料，提升耐候性和光學透明度。

（2）在顯示屏行業(yè)中用于生產(chǎn)低反射、高透光率的保護涂層。

【總結(jié)】

電子級全氟丁基磺酸-4-環(huán)己基苯基二苯基硫鎓鹽因其高純度和優(yōu)異的光化學性能，是現(xiàn)代半導體制造與光刻技術(shù)的重要基礎(chǔ)材料，為提升生產(chǎn)效率和精密度提供了保障。