法国白嫩大屁股xxxx,久久青草精品一区二区三区,草裙社区精品视频三区,国产吸奶电影在线观看

Home > Category > Electronic Chemicals > Triphenylsulfonium nonaflate

Triphenylsulfonium nonaflate

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
  • Basic
  • Product details
  • Related literature
Product Name Triphenylsulfonium nonaflate
CAS144317-44-2
ProductNumYH68171
FormulaC22H15F9O3S2
MW562.46

電子級全氟丁基磺酸三苯基锍鹽是一種高性能光酸生成劑,專為高分辨率光刻工藝設計。其優(yōu)異的化學穩(wěn)定性和光酸生成效率使其成為先進制程中關鍵材料之一,特別適用于深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻技術。該產(chǎn)品滿足苛刻的電子級純度需求,廣泛應用于半導體制造和微電子加工領域,助力實現(xiàn)精密圖形轉移和高集成度器件的生產(chǎn)。

如果需要了解更多產(chǎn)品信息請通過微信或QQ與我們取得聯(lián)系,我們的團隊將為您提供一對一的咨詢服務。

QQ3956182849

微信:

【物理性質】

基本性質

1)化學名稱:全氟丁基磺酸三苯基锍鹽。

2)分子式:C22H15F9O3S2

3)分子量:562.46 g/mol。

外觀與溶解性

1)外觀:白色至淺黃色粉末。

2)溶解性:易溶于常見有機溶劑,如甲醇、丙酮和乙腈。

熱穩(wěn)定性與純度

1)熱分解溫度:>180℃,滿足光刻過程中熱處理要求。

2)純度:≥99.9%,符合電子級標準,雜質含量極低。

【應用領域】

光刻技術

1)用作DUVEUV光刻膠中的光酸生成劑,提升感光靈敏度。

2)確保光刻膠的圖形分辨率和精準度,適應先進制程工藝。

半導體制造

1)適用于晶圓加工中的蝕刻和圖形轉移工藝,滿足7nm及以下節(jié)點的技術需求。

2)提高半導體器件的性能和穩(wěn)定性,支持高密度電路設計。

其他電子領域

1)在顯示面板制造中,用于提升微細圖形生成效果。

2)適合光電子器件和集成光學系統(tǒng)的精密加工,優(yōu)化性能表現(xiàn)。


Sorry, there is no relevant literature
Shrink
86-571-82693216
CS